荷蘭ASML今（1）日通過官方渠道確認，已向台積電新竹科學園區交付全球首台商用化高數值孔徑（High-NA）光刻機，這台設備造價達1.8億歐元，是目前半導體製造領域最精密的生產設備。ASML執行長Peter Wennink表示，該設備經過18個月的測試驗證，已達到量產標準，將用於台積電2奈米制程的關鍵層曝光工序。台積電表示，這台高NA光刻機將安裝於新竹18廠的2奈米專用產線，目前產線建設已完成70%，預計2026年第二季度開始試產，2027年實現量產。與現有的EUV光刻機相比，高NA光刻機的分辨率提升50%，可將晶圓上的電路線寬縮小至10納米以下，同時減少多重曝光次數，降低製造成本約20%。供應鏈消息顯示，ASML已收到全球12台高NA光刻機訂單，其中台積電訂購6台，三星訂購4台，英特爾訂購2台，首批設備將在2026年底前完成交付。台灣設備廠商也同步受益，川寶的光刻機搬運系統、盟立的自動化檢測設備已通過ASML認證，進入高NA光刻機配套供應鏈。業界指出，高NA光刻機的交付標誌著半導體產業正式邁入2奈米時代，台積電在先進制程競爭中再度搶得先機。