ICSCRM 2026 九月美國聖地牙哥舉行:碳化矽與氧化鎵技術最新進展

會議預告:ICSCRM 2026(國際碳化矽與相關材料會議)

時間:2026年9月20日 – 25日

地點:美國聖地牙哥會議中心

ICSCRM 是全球化合物半導體領域最具影響力的學術與產業交流平台。2026年會議將聚焦碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)以及第四代半導體氧化鎵(Ga₂O₃)的最新進展。

會議亮點

  • 8吋SiC襯底量產技術:Wolfspeed、II-VI、天科合達發表最新成果
  • 氧化鎵專場:日本NICT、中國富加镓業、杭州镓仁展示8英寸氧化鎵襯底進展[citation:2]
  • 車用SiC模組可靠性論壇:特斯拉、比亞迪、ST探討電動車應用挑戰
  • 垂直GaN器件技術:AVIC、英諾賽科分享最新突破

會議期間也將舉辦產業展覽,匯聚全球化合物半導體設備、材料與製造廠商。