英偉達「cuLitho」計算光刻平台正式商用！加速3奈米以下製程

英偉達與台積電、新思科技合作開發的cuLitho計算光刻技術正式投入量產，透過AI強化光刻模組設計，將晶圓曝光效率提升40%。此技術已應用於3奈米N3E製程，幫助客戶縮短晶片開發週期。黃仁勳在GTC大會展示新一代Spectrum-X光學交換機，整合硅光技術後功耗降低63%，並宣布與特斯拉合作開發自動駕駛AI訓練平台。分析師指出，英偉達正從晶片供應商轉型為「AI基礎設施巨頭」，但其依賴台積電代工的弱點仍存，若地緣衝突升級恐冲击全球供應。