ASML 突破極紫外光刻技術

突破極紫外光刻技術》荷蘭 ASML 公司在極紫外光刻（EUV）技術上取得重大突破，成功研發出新一代高功率 EUV 光刻機。該技術將大幅提升芯片製造的精度和效率，為半導體產業的進一步發展提供有力支持。ASML 表示，此項技術突破將有助於推動芯片製程向更小尺寸邁進，滿足未來科技發展對高性能芯片的需求。