拓荊科技亮相SEMICON China 2025

2025拓荊科技於2025年3月26日在SEMICON China展會上盛大亮相，展示了多款半導體核心設備，包括離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備等。這些設備已在先進制程節點得到廣泛應用，彰顯了拓荊科技在薄膜沉積設備領域的強大技術實力和創新能力，吸引了眾多業界關注。