拓荊科技亮相SEMICON China 2025科技新訊2025年3月27日news 2025拓荊科技於2025年3月26日在SEMICON China展會上盛大亮相,展示了多款半導體核心設備,包括離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備等。這些設備已在先進制程節點得到廣泛應用,彰顯了拓荊科技在薄膜沉積設備領域的強大技術實力和創新能力,吸引了眾多業界關注。