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首頁 技術小貼士

第三代半導體功率模組封裝技術:如何發揮SiC/GaN的極致性能?

碳化矽(SiC)與氮化鎵(GaN)等寬能隙半導體材料,正加速導入電動車、AI伺服器電源、再生能源等應用。然而,要發揮這些材料的…

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日月光FOCoS先進封裝技術:如何實現AI晶片的高效整合?

日月光投控的FOCoS(Fan-Out Chip-on-Substrate)是扇出型封裝技術的重要代表,廣泛應用於AI、HPC晶片的整合封裝。 技術原理 FO…

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AI製造系統:晶圓廠的智慧大腦,如何將半導體製造推向新高度?

半導體製造是地球上最複雜的製造業之一,一座先進晶圓廠擁有超過1500道製程步驟、數萬個控制參數。AI製造系統正成為晶圓廠的「…

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半導體設備維修與再生技術:延長設備壽命、降低資本支出

一座先進晶圓廠的設備投資超過200億美元,設備折舊是晶圓代工廠的主要成本項目。設備維修與再生技術可延長設備壽命、降低資本支…

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車規級晶片可靠性測試:從AEC-Q到ISO 26262,汽車晶片如何通過嚴苛考驗?

汽車晶片直接關係行車安全,其可靠性要求遠高於消費電子。一顆車規級晶片從設計到量產,需通過AEC-Q系列測試與ISO 26262功能安…

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乾式光阻技術:High-NA EUV時代的關鍵突破,金屬有機化合物如何提升曝光效率?

隨著半導體製程邁向2奈米以下節點,高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影技術成為量產的關鍵。然而,High-NA EUV對光阻材料提…

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鐵電NAND(FeNAND)是什麼?為何能實現1000層堆疊與功耗降低96%?

鐵電NAND(FeNAND)是結合鐵電存儲器(FeRAM)的非揮發特性與NAND Flash的高密度優勢的新型存儲技術,被視為突破傳統NAND物理極…

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銅燒結技術:功率半導體封裝的「銅代銀」革命,如何破解銅顆粒氧化難題?

隨著第三代寬禁帶半導體向高功率密度、高溫應用快速演進,傳統錫膏焊接技術難以勝任175℃以上的服役溫度。銀漿燒結雖能實現高溫…

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量子晶片EDA工具:從實驗室到產業化的關鍵橋樑,72比特版圖僅需6分50秒

量子計算被視為未來產業的重要方向,成熟的半導體製造能力是量子晶片實現大規模集成、走向產業化落地的關鍵路徑。量子晶片EDA(…

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可拆卸式光纖陣列模組:CPO規模化量產的最後一塊拼圖,插拔損耗低於1.5dB

共同封裝光學(CPO)被視為解決AI資料中心頻寬與功耗瓶頸的關鍵技術,但長期以來面臨可製造性與可維修性的挑戰。可拆卸式光纖陣…

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