背面供電技術:解鎖1奈米以下製程的關鍵路徑,PowerVia如何提升晶片效能?
隨著製程微縮至3奈米以下,傳統的正面供電…
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日期:2026年3月28日 日本國家級半導體公…
展會名稱:SEMICON Japan 2026 時間:2026…
日期:2026年3月28日 日本經濟產業省3月27…
日期:2026年3月28日 三星電子3月27日宣布…
會議名稱:第二屆第三代半導體技術與應用…
日期:2026年3月28日 台積電高雄廠2奈米製…
數據來源:新加坡經濟發展局(EDB) 新加…
公司名稱:聯詠科技股份有限公司 (Novatek…
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