ASML新一代EUV光刻機抵台！支援台積電3nm增量需求

荷蘭ASML今日正式交付首台NXE:3800i EUV光刻機至台積電南科晶圓18廠，該機台光刻精度提升至1.5nm，每日可曝光晶圓數從160片增至220片。此設備將直接應用於台積電3nm強化版製程，支援蘋果、輝達等高階晶片生產。台積電表示，2025年EUV光刻機採購量將較去年成長25%，主要用於2nm及以下先進製程擴產 。