台積電2nm製程量產在即！GAA架構助英偉達打造「史上最強AI晶片」

台積電（TSMC）今日披露，其2nm制程將於第三季末進入試產階段，採用「奈米片電晶體」（Nanosheet FET）架構，電晶體密度提升1.1倍，能效比優化25%。此技術將首度應用於英偉達（NVIDIA）下一代Blackwell架構GPU「GB300」，支援FP8精度下每秒8000兆次運算，目標解決AI訓練中的記憶體瓶頸。台積電副總經理張曉強指出，2nm良率已達85%，主要客戶包括蘋果、AMD與輝達，預計2026年貢獻營收比重超過20%。