ASML新一代EUV機台試產 2nm以下製程關鍵

ASML今宣布EUV光刻機NXE:3800G進入試產階段,可支援2nm以下制程。此機台採用高NA(數值孔徑)技術,光刻精度提升30%。台積電已下單30台,預計2026年交付。但供應鏈透露,每台價格高達4.5億美元,且交貨期延長至24個月,恐加劇晶圓廠擴產成本。

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