應用材料擴大EUV光罩檢測設備！搶攻台積電3奈米需求

美國設備大廠應用材料（Applied Materials）宣布推出新一代EUV光罩缺陷檢測系統SEMVision G10，解析度達0.3奈米，可滿足台積電3奈米制程需求。此設備採用AI驅動的即時分析演算法，將光罩瑕疵檢出率提升至99.999%。應用材料已拿下台積電、三星共12台訂單，單價逾8000萬美元。業界分析，隨著EUV多重曝光技術普及，光罩檢測設備市場將以年複合成長率28%擴張，應用材料與ASML形成「光刻雙強」格局。