三星實現3納米GAA晶體管量產

三星電子宣布已成功實現3納米環繞柵極(GAA)晶體管的量產。這一技術突破標誌著三星在半導體製造工藝上取得重要進展。相比傳統的鰭式場效應晶體管(FinFET),GAA晶體管具有更佳的效能與更低的功耗,將為智慧型手機、數據中心等領域的晶片效能提升提供有力支撐 。

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