韓國半導體巨頭三星電子近日宣布啟動1nm晶圓代工工藝開發,計劃2029年後量產。此舉被視為應對台積電在先進製程領域壓力的戰略性舉措。三星將組建專門團隊,引入高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)光刻機等技術,力圖縮小與台積電的技術差距。市場分析認為,此舉將重塑全球晶圓代工格局,台積電已加速1.6nm工藝研發以保持優勢“。
韓國半導體巨頭三星電子近日宣布啟動1nm晶圓代工工藝開發,計劃2029年後量產。此舉被視為應對台積電在先進製程領域壓力的戰略性舉措。三星將組建專門團隊,引入高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)光刻機等技術,力圖縮小與台積電的技術差距。市場分析認為,此舉將重塑全球晶圓代工格局,台積電已加速1.6nm工藝研發以保持優勢“。