半導體廠務系統:晶圓廠的幕後功臣,水、氣、電、化四系統全面解析

一座先進晶圓廠的設備投資超過200億美元,但支撐這些設備運轉的廠務系統同樣關鍵。廠務系統(Facility System)是晶圓廠的幕後功臣,確保生產環境穩定可靠。

四大廠務系統

1. 水系統

超純水(UPW)是晶圓製造的核心耗材,用於清洗晶圓、冷卻設備。超純水電阻率需達18.2MΩ·cm,比蒸餾水純淨1000倍。一座12吋晶圓廠每日需消耗數千噸超純水。

2. 氣系統

包括大宗氣體(氮氣、氧氣、氬氣)與特殊氣體(矽甲烷、三氟化氮等)。特殊氣體需透過氣櫃(Gas Cabinet)供應,並配備洩漏偵測與緊急遮斷系統。

3. 電力系統

晶圓廠對電力品質要求極高,需配備不斷電系統(UPS)與備用發電機。電壓波動超過5%可能導致整批晶圓報廢。

4. 化學品系統

包括光阻、顯影液、蝕刻液等製程化學品,需透過化學品供應系統(CDS)精確配送至各製程設備。

台灣廠務工程廠商

帆宣(6196-TW)、漢唐(2404-TW)、亞翔(6139-TW)、聖暉(5536-TW)等是台灣主要的廠務工程廠商,承接台積電、聯電等晶圓廠的廠務系統建置與維護工程。