維爾德霍芬訊——荷蘭半導體設備巨頭ASML（Euronext: ASML）於2025年10月27日正式發布新一代EUV光刻機「NXE: 5600」，該設備支援2納米及以下先進制程量產，較現有NXE: 3600D設備，圖案密度提升20%，產能提升15%，成為全球半導體廠商追趕制程極限的關鍵設備。 ASML技術長漢斯·梅耶表示，NXE: 5600採用全新的高數值孔徑（High-NA）光學系統，搭配波長13.5納米的極紫外光光源，可實現7納米以下線寬的精準曝光。同時，設備導入了AI驅動的自適應聚焦技術，能夠實時校正晶圓表面凹凸誤差，良率提升至98%以上。該設備單台售價高達1.8億歐元（約合68.4億台幣），目前已接獲台積電、三星及英特爾的首批訂單共計24台，預計2026年第三季度開始交貨。 業界分析指出，2納米制程將是半導體行業進入原子級製造的重要里程碑，而NXE: 5600的推出為其商業化量產鋪平了道路。台積電已計劃在台灣竹科廠區部署12台該設備，用於2027年量產2納米芯片；三星則將其用於平澤工廠的3納米制程升級。不過，該設備的運行需要配套全新的光刻膠與掩模版技術，柯達與日本JSR等材料廠商正加緊研發對應產品，預計將推高2納米制程的整體成本。