AI加速半導體生產！新思科技EDA效能飆15倍科技新訊2025年7月9日news 新思科技AI驅動EDA工具部署於輝達GH200平台，使2奈米設計驗證時間從數週縮至數天。Aitomatic開源大模型SemiKong宣稱可提升首次流片良率至90%。台積電2奈米導入輝達cuLitho計算光刻，縮短50%製程開發週期。
