英偉達「cuLitho」計算光刻平台正式商用!加速3奈米以下製程
英偉達與台積電、新思科技合作開發的cuLitho計算光刻技術正式投入量產,透過AI強化光刻模組設計,將晶圓曝光效率提升40%。此技術已應用於3奈米N3E製程,幫助客戶…
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台積電於美國亞利桑那州技術研討會發布革命性「系統級晶圓整合-X」(SoW X)技術,可將16顆邏輯晶片、HBM記憶體及光互連模組集成於單一餐盤大小封裝,功率支援達…
韓國三星與SK海力士宣布,針對AI服務器的HBM3記憶體已進入量產階段,單顆容量達24GB,功耗較前代降低20%。初期產能全數預訂給輝達、AMD等大廠,價格較傳統GDDR顯…
荷蘭ASML最新高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機首發訂單遭搶訂一空,單機價格達3.4億美元,交貨期從原訂18個月延長至24個月。此設備可支援2奈米以下製程,但僅台積…
輝達最新MI300X AI加速卡成功應用於美國太空總署(NASA)量子計算模擬項目,將分子動力學模擬速度提升1.8萬倍。此晶片整合192GB HBM3記憶體與第五代NVLink技術,…
博通(Broadcom)宣布以690億美元完成收購VMware,創下科技業併購史新高。此交易將整合VMware雲端軟體與博通自研ASIC晶片,打造「軟硬體一體化」企業解決方案。但…
美國設備大廠應用材料(Applied Materials)宣布推出新一代EUV光罩缺陷檢測系統SEMVision G10,解析度達0.3奈米,可滿足台積電3奈米制程需求。此設備採用AI驅動的…
中國長江儲能科技宣布,其自研1.6T硅光互連模組通過英特爾、博通認證,將於第三季量產。此模組採用自研磷化銦激光器,功耗較傳統方案降低40%,目標搶攻北美AI數據…
美國時間24日,英特爾正式宣布啟動創立57年來最大規模組織調整,預計裁撤2.18萬名員工,相當於總人力20%。執行長帕特·基爾辛格(Pat Gelsinger)強調,此舉為「重…
韓國政府宣布將半導體支援計畫從26兆韓元提升至33兆韓元(約新台幣7,500億元),重點補貼晶圓代工與先進製程研發。針對對中國出口的晶片,每片提供1,200美元稅務…